Kobaltsilizid, CoSi2

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Kobaltsilizid, CoSi2

Die chemische Formel CoSi2. Das Molekulargewicht beträgt 115,11. Dunkelbrauner orthorhombischer Kristall. Der Schmelzpunkt beträgt 1277 ℃ und die relative Dichte beträgt 5,3. Es kann bei 1200 ° C oxidiert werden und seine Oberfläche erodieren;


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Kobaltdisilizid
Die chemische Formel CoSi2. Das Molekulargewicht beträgt 115,11. Dunkelbrauner orthorhombischer Kristall.
Der Schmelzpunkt beträgt 1277 ℃ und die relative Dichte beträgt 5,3. Es kann bei 1200 ° C oxidiert werden und seine Oberfläche erodieren;

Es reagiert mit Chlor bei 300 ° C. Es wird durch Fluorwasserstoff, verdünnte und konzentrierte Salpetersäure und Schwefelsäure erodiert und kann auch durch geschmolzenes starkes Alkali stark erodiert werden. Es wirkt langsam mit kochend heißer konzentrierter Salzsäure. CoSi2 mit niedrigem spezifischen Widerstand und guter thermischer Stabilität wird häufig als Kontakt in LSI verwendet. Darüber hinaus hat CoSi2 eine ähnliche Kristallstruktur wie Si, so dass es auf einem Si-Substrat eine epitaktische CoSi2 / Si-Struktur bilden kann, um die Grenzflächeneigenschaften von epitaktischem Metallsilicium zu untersuchen. Silizid-Nanostrukturen haben potenzielle Anwendungen in einer Reihe von Bereichen der Nanoelektronik: Halbleitersilizid-Nanostrukturen (FeSi2) können zur Herstellung von nanoelektronischen aktiven Bauelementen verwendet werden, die sehr wichtige Anwendungen in nano-lichtemittierenden Bauelementen auf Siliziumbasis haben können; und metallische Silizide (CoSi2, Nisi2) können in Zukunft als Nanodrähte in Quantencomputern und fehlertoleranten Terahertz-Nanoschaltungscomputern verwendet werden. Da epitaktische Siliziddrähte auf Siliziumsubstraten hergestellt werden können, werden ihre Eigenschaften im Vergleich zu gewöhnlichen Metallnanodrähten erheblich verbessert, da es keine Korngrenze gibt. metallisch


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